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シクロヘキサンの常温・常圧酸化により高選択的にナイロンの原料を合成 – 産業技術総合研究所

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シクロヘキサン常温・常圧酸化により高選択的にナイロン原料を合成
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酸化タングステン薄膜の半導体光電極は、タングステン酸を含む前駆体溶液を導電性ガラス上にスピンコートし、大気下で焼成すると簡単に作製できる。作製した半導体光電極と対極を一室型反応容器中に配置し、シクロヘキサンと硝酸を含む反応溶液を用い、酸素が溶存して ...

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